主流EUV光源確定為激光等離子體光源(LPP)，目前只有兩家：一，美國的Cymer（2012年被ASML收購），另外一家是日本的Gigaphoton。
國產進度：中國科益虹源公司自主研發設計生產的首臺高能準分子激光器，以高質量和低成本的優勢，填補中國在準分子激光技術領域的空白，其已完成了6kHZ、60w主流ArF光刻機光源制造，激光器上的KBFF晶體由中科院旗下的福晶科技提供。同時，科益虹源也是上海微電子待交付的28納米光刻機的光源制造商。中國科益虹源公司其中有華為子公司參股。
鏡是光刻機中最昂貴最復雜的部件之一，浸沒式光刻物鏡異常復雜，涵蓋了光學、機械、計算機、電子學等多個學科領域最前沿，二十余枚鏡片的初始結構設計難度極大——不僅要控制物鏡波像差，更要全面控制物鏡系統的偏振像差。隨著光刻分辨率的不斷提高，光學光刻機中采用的投影物鏡結構型式經歷了一個演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機中，全反射型、全折射型、折反射型多種結構型式并存：在目前的高分辨率光刻機中，以全折射式結構型式為主流。
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卡爾蔡司是ASML透鏡，反射鏡，照明器，收集器和其他關鍵光學元件（即光學元件）的唯一供應商。ASML與卡爾蔡司成了獨家協議，如果卡爾蔡司無法維持和提高生產水平，ASML可能無法履行訂單。
在光學鏡頭方面，盡管與卡爾蔡司、尼康等公司還有非常大的差距，但奧普光學（奧普光電）提供的鏡頭已經可以做到90nm。奧普光電是大名鼎鼎的長春光機所。
目前，國產光刻機還處于DUV階段。而DUV光刻機也分三類，即KrF、ArF、ArFi。前兩種已經突破，國產最高可做到90nm，可滿足國內重要機構使用，不受國外限制。現在我們正在努力的就是ArFi光刻機（波長等效134nm），多出的這個i代表加入了沉浸式技術，一旦能夠實現突破，那么就等于邁進了DUV光刻機中的高端行列。ArFi沉浸式光刻機最關鍵的就是這個沉浸式技術，ArF波長為193nm，加入沉浸式技術后就可以達到134 nm。而近些年國內企業啟爾機電在浸液控制系統上取得了重大突破。
茂萊光學：工業精密光學龍頭，為上海微批量供應光刻機透鏡。公司主營業務為精密光學元件、光學系統、光學鏡頭，下游涵蓋半導體、生命科學、VR\AR 等領域。
福晶科技：晶體龍頭，主要產品為激光光學元器件、激光器件、非線性光學晶體、激光晶體。前期曾通過歐洲代理向 ASML 供應少量光學元件，公司晶體核心產品LBO、BBO 市占率達 80%。
騰景科技：公司主營產品為精密光學元組件、光纖器件。目前多波段合分束器已進入樣品驗證階段。
炬光科技：公司主要從事激光行業上游的高功率半導體激光元器件（“產生光子”）、激光光學元器件（“調控光子”）的研發、生產和銷售，目前光場勻化器成功進入 ASML 供應鏈。
奧普光電：蔡司的間接供應商，主要供應 K9 光學玻璃、人造螢石（CaF2)等高端光學材料。公司主營業務為光學儀器制造，主要產品為光電測控儀器、光柵傳感類產品。
蘇大維格：研發生產投影式光刻機用定位光柵部件，主要客戶為上海微電子。
晶方科技：通過收購荷蘭子公司打入 ASML 供應鏈，擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計、特性材料及量產能力，其產品可廣泛應用于半導體精密設備、工業自動化、汽車、安防、3D 傳感器等應用領域。
人個觀點，僅供參考。
$晶方科技(SH603005)$
$福晶科技(SZ002222)$
$奧普光電(SZ002338)$
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